苏大维格获得实用新型专利授权:“光学成像纹理结构”
作者:小微 发表于:2025年03月18日 浏览量:65377

苏大维格获得实用新型专利授权:“光学成像纹理结构”
图片来源于网络,如有侵权,请联系删除

证券之星消息,根据天眼查APP数据显示苏大维格(300331)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“光学成像纹理结构”,专利申请号为CN202420465866.9,授权日为2025年3月18日。

专利摘要:本实用新型提供光学成像纹理结构,包括微纳浮雕结构区和微纳镭射结构区,所述微纳浮雕结构区的浮雕凸起和所述微纳镭射结构区的镭射凸起21均在预设范围内周期性排布,所述微纳镭射结构区沿所述微纳浮雕结构区的周沿布置,所述浮雕凸起的周期沿靠近所述微纳镭射结构区的方向逐渐减小,目的在于使浮雕效果和镭射效果之间过渡自然,形成自然的自然生物仿真效果。

苏大维格获得实用新型专利授权:“光学成像纹理结构”
图片来源于网络,如有侵权,请联系删除

今年以来苏大维格新获得专利授权9个,较去年同期增加了350%。结合公司2024年中报财务数据,2024上半年公司在研发方面投入了6693.39万元,同比增11.68%。

数据来源:天眼查APP

以上内容为证券之星据公开信息整理,由智能算法生成(网信算备310104345710301240019号),不构成投资建议。